High Vacuum Magnetron Ion Sputtering Coater (SD-650MH)
Grazie alla sua flessibilità, prestazioni elevate e facilità d’uso, il SD-650MH colma il divario tra la ricerca accademica e la produzione pilota, offrendo un valore reale nei contesti in cui l’affidabilità, la qualità dei film e il controllo preciso sono fondamentali.
Descrizione
L’ SD-650MH è pensato per laboratori di ricerca, università, startup e imprese tecnologiche che operano nei seguenti settori:
- Dispositivi fotonici
Deposizione di dielettrici ottici ad alta qualità e conduttori trasparenti (ITO, AZO) per display, laser, celle solari, rivestimenti antiriflesso e filtri ottici. - Film funzionali avanzati
Rivestimenti magnetici, ferroelettrici/piezoelettrici, superconduttori e semiconduttori composti per sensori, memorie, applicazioni energetiche e dispositivi innovativi. - Modifica e protezione superficiale
Rivestimenti duri e resistenti all’usura (DLC, leghe), trattamento di componenti meccanici, e coating ceramici bioattivi per impianti medici. - Ricerca e sviluppo ad alta frequenza
Sistema stabile, affidabile, con cicli di sputtering ripetibili e automazione intelligente. Ideale anche per operatori non esperti. - Modularità ed espandibilità
Espandibile da singolo a doppio target, con opzioni per sputtering reattivo, misurazione in situ dello spessore, riscaldamento del substrato o polarizzazione.
Grazie alla sua flessibilità, prestazioni elevate e facilità d’uso, il SD-650MH colma il divario tra la ricerca accademica e la produzione pilota, offrendo un valore reale nei contesti in cui l’affidabilità, la qualità dei film e il controllo preciso sono fondamentali.
Il magnetron sputtering è una tecnica di deposizione fisica da fase vapore (PVD) assistita da plasma, in cui ioni energetici colpiscono un target solido, rilasciando atomi che si condensano su un substrato per formare un film sottile. I rivestimenti ottenuti sono densi, aderenti e altamente uniformi, particolarmente adatti per metalli refrattari, leghe e materiali composti. Il controllo preciso dello spessore del film rende questa tecnica ideale per applicazioni ottiche ed elettroniche avanzate.
Il modello SD-650MH di Vision Precision Instruments è un sistema compatto ad alto vuoto progettato per ricerca e sviluppo o produzione pilota. Il sistema è composto da una camera a vuoto in acciaio inox raffreddata ad acqua (ø210 mm), dotata di visore in acrilico, magnetron singolo (upgradabile a doppio), supporto per substrati, gruppo di pompaggio, sistema di controllo gas, strumenti di misura del vuoto e un sistema di controllo elettronico integrato.
Un sistema di pompaggio combinato — turbomolecolare da 300 L/s (isolato da vibrazioni) con pompa meccanica di supporto — permette il raggiungimento di una pressione operativa tipica di 9 × 10⁻⁴ Pa in circa 10 minuti, e una pressione limite di 5 × 10⁻⁵ Pa. Il gas di lavoro, argon ad alta purezza, viene regolato tramite un collettore di flusso (opzionalmente con mass-flow controller).
Il sistema è gestito tramite una interfaccia touch-screen completamente programmabile, che consente agli utenti di controllare pompe, flussi, potenze e altre variabili tramite un’interfaccia grafica intuitiva. Sequenze automatizzate di evacuazione, immissione gas e sputtering garantiscono ripetibilità e sicurezza. Il generatore DC supporta target conduttivi, mentre l’alimentatore RF con auto-matching è ideale per materiali isolanti (es. SiO₂). È inoltre disponibile un monitor ottico opzionale per la misurazione in tempo reale dello spessore del film, con possibilità di arresto automatico al raggiungimento dello spessore desiderato.
Specifiche tecniche
- Set pompa da vuoto: Pompa rotativa a olio + pompa turbomolecolare (oil free)
- Velocità di pompaggio rotativo: 50 Hz: 4.4 L/s / 60 Hz: 5.2 L/s
- Velocità di pompaggio molecolare: 300 L/s
- Limite di vuoto: 5 × 10⁻⁵ Pa
- Pressione di lavoro: 0.5 – 5 Pa
- Tempo di evacuazione: > 10 minuti (10³ Pa)
- Misura del vuoto: Da atmosfera a 10⁻⁶ Pa
- Controllo gas: Regolatore di flusso
- Camera di sputtering: Ø260 × 200 mm (h), materiale metallico
- Sorgente target magnetron: Ø50 × 3 mm (Cu), materiali magnetici deboli
- Metodo di utilizzo: Manuale d’istruzioni
- Dimensioni e peso: 610 × 420 × 490 mm, 100 kg
- Alimentazione: AC 110V 60Hz o AC 220V 50Hz
- Consumo: < 3000W
- Raffreddamento: Aria (pompa) + acqua (target)
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Testimonianze
Possiamo solo fare un plauso sia al funzionario di vendita sia ai tecnici. Speriamo lo stesso avvenga nel prossimo futuro
E’ sempre un piacere collaborare con voi, mai avuto problemi e per noi siete classificati come fornitori di alto livello…
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